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    《電子工業(yè)專用設備雜志》部級期刊

    Equipment for Electronic Products Manufacturing
    《電子工業(yè)專用設備》雜志由中國電子科技集團公司主管,中國電子科技集團公司第四十五研究所主辦,獲正式刊號(CN 62-1077/TN,ISSN 1004-4507)。本刊創(chuàng)刊于1971年,雙月刊,A4開本,其辦刊宗旨是報道電子領域的最新研究成果,反映電子學科的發(fā)展趨勢,引領電子學科發(fā)展的前沿,并促進電子事業(yè)的發(fā)展。
    ¥256.00
    全年訂價
    雙月刊
    出版周期
    62-1077/TN
    國內(nèi)刊號
    1004-4507
    國際刊號
    預計審稿周期:1個月內(nèi)
    雜志簡介 期刊榮譽 學術熱點 期刊文獻 相關雜志

    電子工業(yè)專用設備雜志簡介

    主管單位:中國電子科技集團公司
    出版周期:雙月刊
    出版語言:中文
    主辦單位:中國電子科技集團公司第四十五研究所
    國際刊號:1004-4507
    類別:電子
    創(chuàng)刊時間:1971
    國內(nèi)刊號:62-1077/TN
    全年訂價:¥ 256.00
    出版地區(qū):北京
    曾用名:半導體設備
    郵編:100029

    《電子工業(yè)專用設備》是一本由中國電子科技集團公司第四十五研究所主辦的電子學術刊物,該雜志為雙月刊,面向國、內(nèi)外公開發(fā)行。主要報道電子相關領域的研究成果與實踐,該雜志的創(chuàng)辦有利于國內(nèi)外同行探討有創(chuàng)新的學術觀點,加強國內(nèi)外同行學術交流。本刊將及時推出該領域的新理論、新技術、新成果,使國內(nèi)外同行能及時、方便地查閱、引用,為電子研究事業(yè)的發(fā)展作貢獻。

    《電子工業(yè)專用設備》雜志一級發(fā)文領域主要有:電子電信、經(jīng)濟管理、自動化與計算機技術、電氣工程、機械工程、金屬學及工藝、化學工程、一般工業(yè)技術、輕工技術與工程、冶金工程。二級發(fā)文領域主要有:電子電信 / 物理電子學、經(jīng)濟管理 / 產(chǎn)業(yè)經(jīng)濟、電子電信 / 微電子學與固體電子學、電子電信 / 電路與系統(tǒng)、自動化與計算機技術 / 計算機科學與技術、電子電信 / 信息與通信工程、自動化與計算機技術 / 計算機系統(tǒng)結構、電子電信 / 通信與信息系統(tǒng)、自動化與計算機技術 / 控制科學與工程、自動化與計算機技術 / 檢測技術與自動化裝置。該雜志與時俱進,開拓進取,保持優(yōu)勢,敢于爭先,開設了先進封裝技術與設備、半導體制造工藝與設備、電子專用設備研究、專用設備維護與保養(yǎng)等欄目,反映電子領域科研成果和電子實踐經(jīng)驗,為電子工作者和研究人員提供業(yè)務交流和學術成果的發(fā)布平臺。

    電子工業(yè)專用設備期刊榮譽

    學術熱點分析

    影響因子和被引次數(shù)

    期刊他引率和平均引文率

    影響因子:指某一期刊的文章在特定年份或時期被引用的頻率,是衡量學術期刊影響力的一個重要指標。影響因子越高,代表著期刊的影響力越大。

    被引次數(shù):指某篇論文在一定時間內(nèi)被引用的次數(shù)。被引用次數(shù)越多,說明這篇論文影響力越大,論文的分量越高。

    期刊他引率:指此期刊全部被引用次數(shù)中,被其他刊引用次數(shù)所占的比例。具體算法是:他引率= (被其他刊引用的次數(shù)) / (期刊被引用的總次數(shù))。

    平均引文率:指在某一期刊上發(fā)表的論文被引用的平均次數(shù)。它是研究、學術績效和研究出版物發(fā)表質(zhì)量的重要指標。

    主要資助項目分析

    序號 資助項目 文獻量
    1 國家自然科學基金 39
    2 國家高技術研究發(fā)展計劃 37
    3 國家科技重大專項 29
    4 國家重點基礎研究發(fā)展計劃 7
    5 海南省自然科學基金 6
    6 湖南省自然科學基金 3
    7 國家火炬計劃 3
    8 國防基礎科研計劃 2

    主要資助課題分析

    序號 資助課題 文獻量
    1 國家高技術研究發(fā)展計劃(2005AA404210) 9
    2 國家科技重大專項(2009ZX02011-005A) 8
    3 國家自然科學基金(60576053) 8
    4 國家高技術研究發(fā)展計劃(2009AA043103) 5
    5 國家科技重大專項(2012ZX04001-022) 3
    6 國家高技術研究發(fā)展計劃(20094A043103) 3
    7 國家高技術研究發(fā)展計劃(2002AA311243) 3
    8 國家自然科學基金(50390064) 3

    主要發(fā)文機構分析

    序號 機構名稱 發(fā)文量
    1 中國電子科技集團公司第四十五研究所 646
    2 中國電子科技集團公司第二研究所 229
    3 中國電子科技集團公司第四十八研究所 168
    4 中國電子科技集團公司第四十六研究所 118
    5 電子工業(yè)部 115
    6 北京中電科電子裝備有限公司 92
    7 中華人民共和國工業(yè)和信息化部 75
    8 中國電子科技集團公司 68

    相關發(fā)文主題分析

    序號 相關發(fā)文主題
    1 半導體;光刻;晶圓;電機;拋光
    2 真空;電池;低溫共燒陶瓷;太陽能;封裝
    3 電池;太陽能電池;太陽能;均勻性;離子注入
    4 單晶;硅單晶;硅片;晶片;區(qū)熔
    5 半導體;光刻;曝光機;切片;切片機
    6 晶圓;劃片;劃片機;鍵合;封裝
    7 光刻;電路;電子專用設備;集成電路;半導體
    8 電路;集成電路;化學機械拋光;機械拋光;晶片

    電子工業(yè)專用設備期刊文獻

    • 碳化硅半導體材料應用及發(fā)展前景 作者:賀東葛; 王家鵬; 劉國敬;中國電子科技集團公司第四十五研究所; 北京100176;
    • AMHS在集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展趨勢分析 上海新創(chuàng)達智能科技有限公司;
    • 區(qū)熔硅單晶生長過程建模綜述 作者:云娜; 龐炳遠;中國電子科技集團公司第四十六研究所; 天津300220;
    • 淺談新型存儲器 泛林集團;
    • DW技術全面替換傳統(tǒng)砂漿切割工藝研究和展望 作者:趙雷; 吳學賓;中國電子科技集團公司第四十五研究所; 北京065201;
    • 金剛砂均勻性對多晶切片質(zhì)量的影響分析 作者:白楊豐; 崔國瑞; 于麗君;中國電子科技集團公司第二研究所; 山西太原030032;
    • 激光劃片機的晶圓自動對準方法研究 作者:張乾; 張永昌; 鄧勝強; 譚立杰;中國電子科技集團公司第四十五研究所; 北京100176;
    • 碳化硅單晶襯底精密加工技術研究 作者:趙歲花; 梁津; 王家鵬; 衣忠波;中國電子科技集團公司第四十五研究所; 北京100176;

    電子工業(yè)專用設備在線訂購

    全年訂價:¥256.00  雙月刊

    主辦單位:中國電子科技集團公司第四十五研究所

    ,地址:北京市朝陽區(qū)安貞西里26號浙江大廈913室,郵編:100029。

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